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高度温度制御

バッチプラントの安定運転を実現する制御技術

バッチプラントの安定運転の実現には槽(タンク)の温度制御が不可欠です。日揮(JGC)は2種類の異なるタイプの高度温度制御技術を提供できます。

高精度温調

培養槽のような温度制御幅が厳しく制限される槽(タンク)に対して、「高精度温調」アルゴリズムを提供できます。高精度温調アルゴリズムを適用することで、あたかも熟練のオペレータが操作制御するかのようにジャケットへの熱媒(スチーム)と冷媒(冷水)のバルブを操作して槽内の温度とジャケット温度を調整し、例えば±0.1℃という高度な制御精度を実現します。また、設定値変更時には、オーバーシュートを生じることなく、滑らかな設定値変更に対する温度追従が実現できます。

モデル予測制御

反応槽などの温度制御の安定性を実現する手段として、モデル予測制御を適用できます。当社では、仏Sherpa Engineering社のバッチプラント向けモデル予測制御パッケージPCR(Predictive Control for Reactors)の適用ライセンスを有しており、国内医薬品プラントへの適用実績を有しています。モデル予測制御の特長であるむだ時間を考慮した「フィードフォワード+フィードバック制御機能」の適用により、例えば外乱の発生や一定の勾配による温度設定値の変更など、きめ細やかな温度制御が求められ、制御の難しい系でも安定した温度制御を実現することができます。

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